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카테고리 2018
No 186
제목 18. [JVST A] Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development
18. [JVST A] Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development
Jiazhen Sheng, Jung-Hoon Lee, Wan-Ho Choi, TaeHyun Hong, MinJung Kim, and Jin-Seong Park
첨부파일
JVST A Review paper_ALD Oxide TFT.pdf